HOME >  インフォメーション >  2015/6/19

インフォメーション

2015/6/8

鷲尾・小谷研究室の研究論文が、 Advances In Engineering (AIE) により、 工学的に特に重要度の高い論文として選ばれ、AIE のサイトにて紹介されました。

鷲尾・小谷研究室の次の研究論文が、Advances In Engineering(AIE) により、 工学的に特に重要度の高い論文として選ばれ、AIE のサイトにて紹介されました。

 Hiroshi Chiba, Tatsuya Mori, Tomoyuki Kawashima, Katsuyoshi Washio.
 "Low-Temperature Heteroepitaxial Growth of Single-Domain V-Doped ZnO Films on c -Face Sapphire"
 Journal of Electronic Materials, May 2015, Volume 44, Issue 5, pp 1351-1356.

【詳細URL】
Advances In Engineering(AIE) Webページ

東北大学 電気・情報系
〒980-8579 仙台市青葉区荒巻字青葉 6-6-05
TEL : 022-795-7186(教務係)
Email :

mail