均質TiO₂-SiO₂超低膨張ガラスの開発

J. Kushibiki et al., Appl. Phys. Express, 1 (2008) 087002.

　スート法により作製し、均質化処理を行ったTiO₂-SiO₂超低膨張ガラスの試作を行い、LFB-UMCシステムにより評価した結果、下図のようにほとんどの部分（黒い部分以外）で線膨張係数(CTE)が±5 ppb/K以内に対応するLSAW速度分布を示すガラスの作製に成功しました。

　その後、本研究は、NEDOの知的基盤研究開発事業「次世代超低膨張ガラスのゼロCTE温度計測法の標準化に関する研究開発」と、JSTの産学イノベーション加速事業「光周波数標準用超高品質光キャビティーの開発」の実施により、熱処理プロセスの制御から、所望のゼロCTE温度を有する均質超低膨張ガラスの作製も可能となっています。[J. Kushibiki et al., Proc. SPIE, Vol. 7636, 76362M (2010).]